中文版 | English
 
 
  产品中心
 
 

HR招聘:recruiter@sienidm.com

地址:中国山东省青岛市西海岸新区团结路2877号 国际合作创新中心(ICIC)4楼401
Address:401 International Cooperation Innovation Center(ICIC),  No. 2877 Tuanjie Road, West Coast New District, Qingdao, Shandong, China.

 
  产品中心 位置:首页 > 产品展示 > 产品中心  
光掩模板

芯恩光掩模板 (光罩) 厂简介

為了滿足CIDM及其他芯片之工程及生產制造的需要,我們將提供其所需的光掩模板(Photomask)制造及相关的服务。我们将导入各式先进的光掩模板制造设备,以提供0.5微米到28纳米工艺的高品质传统二元光掩模板(Binary Mask)、光学趋近修正光掩模板(Optical Proximity Correction Mask)及相位移光掩模板(Phase Shift Mask)。

芯恩光掩模板厂拥有数十位在光掩模板业界历练超过15年以上的专家,均具备丰富专业的光掩模板建厂、管理与技术开发等实务经验,并将陆续导入各式先进的深紫外线(DUV)激光式与电子束式(E-Beam)光掩模板光刻系统、干湿式光掩模板显影蚀刻系统、光学式与扫描电子束式光掩模板线宽量测系统、光掩模板叠对量测系统、光掩模板缺陷检验系统、激光式与聚焦式离子束(FIB)式光掩模板缺陷修补系统及相位移光掩模板制造与检验系统等等,我们将严格做好客户制模资料(Tooling Data)的安全管控,以保障客户的智慧财产权,并努力优化制程良率及改善光掩模板品质,以及提升光掩模板的制造能力,以缩短光掩模板的交期,来滿足CIDM及其他客户和芯片厂對光掩模板严格的要求。

芯恩光掩模板厂计划提供的产品及服务,如下:

  • 二元光掩模板(Binary Mask 5009/6012/6025)。
  • 光学趋近修正光掩模板(Optical Proximity Correction Mask)。
  • 相位移光掩模板(Phase Shift Mask
  • 光掩模板制模(Mask Tooling)与光掩模板光刻(Mask Lithography)等的工程谘询、光掩模板之光学趋近修正(OPC)的工程谘询。


 
| 网站首页  | 关于我们  | 产品中心  | 新闻动态  | 人才招聘  | 在线留言  | 联系我们
版权所有 Copyright(C)2017-2020 芯恩集成公司